魔方榮幸地宣布，我們將于2017年5月18日開(kāi)啟最新群展“無(wú)行地”，展期將持續(xù)至7月10 日。
　　此次展覽集合六位藝術(shù)家跨越繪畫、影像、多媒體裝置等不同面向的作品，旨在提示創(chuàng)作路徑、軌跡的隱秘性與現(xiàn)實(shí)問(wèn)題刻度之間的維系，以及作者與觀者在表述和傳達(dá)中如何地輾轉(zhuǎn)騰挪。而置身藝術(shù)話語(yǔ)并行交織的當(dāng)下，創(chuàng)作由“此地”去往“彼處”的選擇和姿態(tài)，即形塑了藝術(shù)的面貌。
　　“絕跡易，無(wú)行地難”不僅比擬了創(chuàng)作路徑的不可言說(shuō)性，也提示了意象之外的玄妙。